除氟剂
台湾环保意识抬头,国家环保法规也日趋严谨，
传统氯化钙沉淀药剂方法已不敷使用，
依放流水标准氟离子<15ppm，
所需添加氯化钙药剂量太大，造成过多氟化钙污泥
而现行氟化钙污泥处理费节节升高。
为解决氯化钙添加过多问题，本公司除氟剂针对低浓度
含氟废水(<100ppm)能提供高效率之处理，
减少氯化钙使用，进而污泥量降低，并且废水中氟离子
达到<5ppm目标。
除钼剂
台湾环保意识抬头，国家环保法规也日趋严谨，
科技业与传统工业因生产需求使用钼原料，常导致
放流废水中，无法达到法规钼(Mo)<0.6ppm目标。
本公司除钼剂对於含钼废水能提供高效率之处理，
进而迅速有效去除水中钼含量与减少污泥产生之目的。
本公司除钼剂(AYS-DMO)加入於PH调整至 7~9 区间,
搭配化学处理与搅拌，即能形成沉降性良好的凝结物而沉降。
除硼剂
除硼剂有别於传统方法药剂(钙/镁/铝/钡沉淀药剂)，
并且不影响硼离子交换树脂操作效率与树脂使用寿命，
对於含硼废水能提供高效率之处理，
进而达到去除水中硼含量与减少污泥产生之目的。
应用於火力发电厂脱硫废水/LCD偏光板废水等
(注)已取得台湾发明专利(I720863)
LCD-ITO树脂塔系统
产品说明
全自动型ITO树脂塔系统功能
(1)降低草酸蚀刻液50%以上使用量，蚀刻液不产生草酸铟结晶。
(2)降低蚀刻机台滤芯与Parts更换。
(3)提升制程良率与产能，减少产品因结晶刮伤与孔破问题。
(4)机台采PLC人机介面，机台参数变更方便。
机台尺寸：200(W)*150(D)*200(H)cm/台
产地：台湾
适用范围：适合草酸系统ITO蚀刻机台
客户实绩:友达光电/群创光电/彩虹光电等
H2O2去除酵素
产品说明
包装方式： 20Kg/桶、25Kg/桶、200kg/桶
适用范围：依客户制程需求，提供不同浓度与种类H2O2去除酵素，
应用於纺织漂白制程与电子厂废水制程。
(注)已取得台湾发明专利(I666176)
玻璃异形加工钻石磨棒
产品说明
用途:触控面板钻孔、扩孔、倒角等多功能复合式磨棒。
特点:解决以往玻璃孔径细小加工问题，提高加工精度与效率。
外径D(mm):复合式磨棒最小钻孔直径Ø0.7
粒度:#400,#500,#600,#800,#1000
客户实绩:正达光电/胜华光电/坤辉光电/达鸿光电等
(注)其他尺寸规格，可依客户需求生产
